حصلت شركة إنتل في الآونة الأخيرة على اهتمام وسائل الإعلام لكونها أول صانع لأشباه الموصلات يستخدم أجهزة طباعة الرقاقات High-NA EUV عالميًا.
وتُعد إنتل أولى شركات التصنيع الكبرى التي تشتري أجهزة الطباعة الحجرية بتقنية الأشعة فوق البنفسجية المتطرفة (High-NA EUV) من شركة ASML الهولندية، وقد أكملت إنتل الآن المرحلة الأولى من تجميع الجهاز في منشأتها في ولاية أوريغون.
وبعد اكتمال المرحلة الأولى من تجميع جهاز طباعة الرقاقات High-NA EUV، تؤكد وسائل الإعلام أن هذه الخطوة تمنحها تفوقًا على شركتي TSMC وسامسونج؛ لأنه لم يخطُ أحد من المنافسين هذه الخطوة بعدُ بسبب التكلفة المالية الضخمة، وقلة عدد العملاء الراغبين في تبني دقات التصنيع المتقدمة والمكلفة مثل: 3 نانومتر أو 2 نانومتر.
وستمكّن أجهزة الطباعة الحجرية High-NA EUV صانعي الرقاقات من تقليل أبعاد طول الموجة في أثناء تصنيع الرقاقات إلى دقة تصنيع قدرها 8 نانومتر، وهو تحسن واضح مقارنة بدقة التصنيع البالغ قدرها 13 نانومتر التي تعتمد عليها أجهزة Low-NA EUV Twinscan NXE الحالية.
لكن هذا التحسين يأتي بتكلفة مالية ضخمة، إذ يبلغ سعر كل جهاز High-NA EUV Twinscan EXE قرابة 380 مليون دولارٍ، أي أكثر من ضعف سعر جهاز Twinscan NXE الحالي الذي يبلغ 183 مليون دولارٍ.
ونشرت إنتل في شهر مارس مقطع فيديو لوصول جهاز طباعة الرقاقات High-NA EUV إلى منشأتها، ومنذ ذلك الوقت تعمل إنتل مع مهندسي ASML على تجميع وتركيب جميع قطع الجهاز بدقة وعناية.
وتقول إنتل إن الإنجاز القادم سيكون عند عمل الجهاز بطاقته القصوى، إذ تتوقع إنتل أن يعمل الجهاز بطاقته الإنتاجية الكاملة بحلول نهاية عام 2024، وبمجرد تشغيله سينتج الرقاقات بأحدث دقات التصنيع، التي تسميها إنتل 14A، في عام 2025.
تابعنا
